1. No category

1 1 th Ko re a n ALD Wo rks h o p P ro g ra m
(2015. 04. 24)
시
간
일
정
발 표 자
9 :0 0 ~ 9 :1 0
제 1 1 차 Ko re a n ALD Wo rks h o p 개 회 식
9 :1 0 ~ 9 :5 0
Ato m ic La ye r De p o s itio n o f Tita n iu m Me ta l a n d Oth e r
Ele c tro p o s itive Ele m e n t Film s
Ch u c k Win te r
( Wa yn e S ta te
Un ive rs ity)
9 :5 0 ~ 1 0 :3 0
P ro g re s s a n d c h a lle n g e s o f ALD/ CVD p re c u rs o r
d e ve lo p m e n t
고원용
( UP c h e m )
1 0 :3 0 ~ 1 1 :0 0
Co ffe e B re a k
1 1 :0 0 ~ 1 1 :4 0
S yn th e s is o f n o ve l m e ta l- o rg a n ic c o m p le xe s a n d th e ir
a p p lic a tio n in a to m ic la ye r d e p o s itio n
한정환
( 한국화학연구
원)
1 1 :4 0 ~ 1 2 :2 0
Ato m ic la ye r d e p o s itio n fo r lo w - te m p e ra tu re th in film S OFC
a p p lic a tio n
김영범
( 한양대)
점 심 식 사
1 2 :2 0 ~
1 4 :0 0
( 생활과학관 7 층)
1 4 :0 0 ~ 1 4 :4 0
Ap p lic a tio n o f P EALD to th e h ig h m o b ility o xid e TFT
박상희
( KAIS T)
1 4 :4 0 ~ 1 5 :2 0
Ato m ic la ye r d e p o s itio n o f a m o rp h o u s m o lyb d e n u m s u lfid e
fo r e le c tro c h e m ic a l h yd ro g e n e vo lu tio n c a ta lys is
민요셉
( 건국대)
1 5 :2 0 ~ 1 5 :5 0
Co ffe e B re a k
1 5 :5 0 ~ 1 6 :3 0
ALD fo r h ig h vo lu m e m a n u fa c tu rin g : La te s t tre n d s ,
d e ve lo p m e n ts , a n d m a rke t a p p lic a tio n s
1 6 :3 0 ~ 1 7 :1 0
최 근 DRAM 공 정 에 서 사 용 되 는 ALD 공 정
1 7 :1 0 ~ 1 7 :5 0
Effe c ts o f In te rfa c ia l La ye r o n Ch a ra c te ris tic s o f TiN/ ZrO 2
S tru c tu re s
김윤수
( 삼성전자)
한 국 ALD w o rks h o p 기 록
전형탁
( Ha n ya n g
Un iv. )
Ad rie n
La Vo ie
( La m
re s e a rc h )
이정엽
( S K h yn ix)