Download Report

90
บรรณานุกรม
ปารเมศ ชุติมา. “การออกแบบการทดลองทางวิศวกรรม.” พิมพ์ครั้งที่1. กรุ งเทพฯ : สานักพิมพ์แห่ง
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย. 2545.
อลงกต ลิ้มเจริ ญ. “การประยุกต์ใช้เทคนิคทางสถิติในกระบวนการกัดเพื่อหาพารามิเตอร์ที่
เหมาะสมที่สุด สาหรับการผลิตหัวอ่าน-เขียนฮาร์ ดดิสก์.” วิศวกรรมศาสตรมหาบัณฑิต
สาขาวิชาวิศวกรรมอุตสาหการ บัณฑิตวิทยาลัย มหาวิทยาลัยเชียงใหม่,2552.
ชลิดา คูหาเรื อง, เสกสรรค์ ธิมากุล, วีระเพ็งจันทร์ , สุ รศักดิ์เนียมเจริ ญ และ สมเกียรติ ศุภเดช.
2546. กระบวนการสร้างโฟโตมาส์กสาหรับวงจรรวมซีมอส ขนาด5 ไมครอน, น. 1365-1370. ใน
การประชุมวิชาการทางวิศวกรรมไฟฟ้ า ครั้งที่ 26.
นิธิ อัตถิ. “การศึกษาความเป็ นไปได้ในการสร้างโครงสร้างจุลภาค3 มิ ติ ด้วยกระบวนการถ่ายแบบ
ลายวงจรขั้นตอนเดียว โดยใช้ กระจกต้นแบบชนิดความหนาชั้นฟิ ล์มหลายระดับ.”
วิศวกรรมศาสตรมหาบัณฑิต สาขาการจัดการวิศวกรรม บัณฑิตวิทยาลัย มหาวิทยาลัย
เกษตรศาตร์ ,2551.
“เทคโนโลยีสารกึ่งตัวนาและวงจรรวม.” 2546. [ระบบออนไลน์]. แหล่งที่มา
http://student.nu.ac.th/electronic/Inn.doc
91
Al-Kuhaili, M.F. and S.M.A. Durrani,(2007), 'Optical properties of Chromium oxide thin films
deposited by electron-beam evaporation', Optical Materials 29: 709-713.
Atthi, Nithi, et al. (2008a), 'Fabrication of Three-Dimensional Microstructures by One-Step
Lithography with Multi-Film Thickness Mask ', Electrical Engineering/Electronics,
Computer, Telecommunications and Information Technology, 2008. ECTI-CON 2008.
5th International Conference on (2; Krabi), 793-96.
Atthi, Nithi, et al. (2008b), '3-Dimensionals Lithography Techniques for Air Bearing Surface
Patterning in Hard-Disk Drive Reading/Writing Head Manufacturing', Khon kaen
University Research Journal 13 (3), 341-47.
Benjamin, G.E. (2005), 'Photomask Fabrication Technology', McGraw-Hill Co. Inc., New York.
B.Wagner, et al. (1995), 'Microfabrication of Complex Surface Topographies Using Grey-Tone
Lithography', Sensors and Actuators A: Physical, 46-47, 89-94.
Brian, C.M. (2004), 'Development of a Deep Silicon Phase Fresnel Lens Using Grayscale
Lithography and Deep Reactive Ion Etching', M.S. thesis thesis, University of Maryland.
C.M.Waits, et al. (2005), 'Microfabrication of 3D silicon MEMS structures using gray-scale
lithography and deep reactive ion etching', Sensors and Actuators A, 119, 245-53.
Fuhua, G., J. Yao, Y. Zeng, S. Xie and Y. Guo. (2002), 'One-step lithography for fabrication of
multifunction diffractive structures with grey-tone mask', Microelectronics engineering
(61-61): 165-171.
Jantawong, J., et al. (2007), 'The study on 3-D Microstructure Fabrication with Gray-scale
lithography technique', Ladkrabang Engineeering Journal 25 (2), 42-46.
Kalk, F.D.,R..French, H.U.Alpay and G.Hughes. (1994), 'Attenuated phase-shifting photomasks
fabricated from Cr-based embedded shifter blanks', In SPIE proceeding Photomask
Japan.
92
L. Mosher, et al., (2009),'Double-Exposure Grayscale Photolithography ', Journal of Micro
electro mechanical Systems ', vol. 18, pp. 308-315.
Montgomery, D.C. (1997). 'Design and analysis of experiments', 4thed. John wiley & Sons, Inc.,
Canada.
P.F.Carcia, et al. (1999), 'Thin Films for Phase-Shift Masks', Vacuum and Thin Film, 14-21.
Purdy, D. R. (1994), 'Fabrication of complex micro-optic components using photo-sculpting
through halftone transmission masks ', Pure and Applied Optics: Journal of the
European Optical Society Part A 3, 2, 167-75.
R.A.Lee (2002), 'Colourtone lithography', Microelectronic Engineering, 61-61, 105-11.
Reimer, K., et al. (1997), 'Micro-optic fabrication using one-level gray-tone lithography', Society
of Photo-Optical Instrumentation Engineers (SPIE) (3008; San Jose: Miniaturized
Systems with Microoptics and Micromechanics II), 279-88.
Rizvi, Syed (2005), 'Mask Substrate', in Syed Rizvi (ed.), Handbook of Photomask
Manufacturing Technology (San Jose, California, U.S.A: Taylor & Francis Group).
Sure, A, T. Dillon, J. Murakowski, C. Lin, D. Pustai and D.W. Prather. (2003), 'Fabrication and
Characterization of three-dimensional silicon tapers', Optical society of America
Taff, J., et al. (2006), 'Fabricating multilevel SU-8 structures in a single photolithographic step
using colored masking patterns', Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum,
Surfaces, and Films, 24 (3), 742.
Totsu, K., et al. (2006), 'Fabrication of three-dimensional microstructure using maskless grayscale lithography', Sensors and Actuators A: Physical, 130-131, 387-92.
Ullerich, S., Steingrtiber, R., and Umbach, A. (1999), 'Grey-tone lithography and dry etching
technique for the fabrication of integrated spot size converters', Microelectronic
Engineering, 46, 303-06.
93
Yoshioka, Nobuyuki (2005), 'Optical Masks: An Overview', in Syed Rizvi (ed.), Handbook of
PhotomaskManufacturingTechnology (San Jose, California, U.S.A: Taylor & Francis
Group).