テレフタル酸入り寒天を用いた化学プローブ法による OH ラジカルの観測 Measurement of OH radical by chemical probe method using agar containing terephthalic acid 大分大工木下大樹、神田真治、赤峰修一、市來龍大、* 金澤誠司 Oita Univ. : D. Kinoshita, S. Kanda, S. Akamine, R. Ichiki and S. Kanazawa 1.はじめにら，照射時間の経過とともに蛍光強度が増してい大気圧プラズマジェットは発生の簡便さや利用き，その範囲も大きくなったが，その拡散する距性の良さから広く使用されている。特に,菌を培養離には限度があった。Fig.2(b)に示している 10 分した寒天培地にプラズマジェットを照射して滅菌間のジェット照射では寒天表面からの蛍光の拡散効果を調べる研究では，プラズマ源としての有用深度は約 9mm であった。性が認められている。しかし,プラズマジェットがさらにジェットが当たっている寒天の表面には周囲の空気を巻き込みながら発生する際に生成すくぼみが見られる。寒天は一度凝固すると約 70℃ る活性酸素や活性窒素の界面や培地中での分布特以上にならなければ溶解しないため,寒天が溶け性については重要であるが，まだ十分な知見が得て変形したのではなく,同じ地点にジェット流にられていない。我々はこれまでにテレフタル酸がよる圧力が加わり続けたために変形したと考えら OH ラジカルをトラップして蛍光を発することをれる。 He gas (2.0 L/min) 利用した化学プローブ法による OH ラジカル検出手法で液中 OH ラジカルの測定を可能にしてきた [1]。本研究では大気圧 LF プラズマジェットを寒 Glass tube 天培地に照射して,寒天中に供給される OH ラジカルの測定を行ったので報告する。 Electrode 2.実験方法 Fig.1 に大気圧 LF プラズマジェット発生装置 power supply Plasma jet と寒天を入れたキュベットの概略図を示す。ガラス管に幅 10mm のリング状電極を 10mm の間隔で設置しており，周波数 20kHz,電圧 6kV0-P の低 LF/HV 10mm Agar in quartz cuvette 30mm 周波・高電圧を印加することで大気圧プラズマジ Fig.1 Experimental setup. ェットを生成した。このプラズマジェットを NaTA(テレフタル酸二ナトリウム)入り寒天の表面へ照射した。プラズマジェットから寒天表面までの照射間距離は 10mm とした。化学プローブ法による OH ラジカルの蛍光観測は，励起光源として紫外線ランプ(波長 312nm)を用いて行った。 3.結果と考察 Fig.2(a)はプラズマジェット照射の様子であり， Fig.2(b)は照射 10 分後の寒天からの蛍光の様子で (b) Fluorescence after 10 min plasma jet irradiation irradiation Fig.2 Plasma jet and agar in quartz cuvette. (a) plasma jet ある。Fig.2(b)を見ると,OH ラジカルが寒天中の参考論文テレフタル酸にトラップされてプラズマジェット [1] S. Kanazawa, T. Furuki, T. Nakaji, S. Akamine, R. 照射地点を中心に半楕円状に蛍光が広がっている Ichiki: Inter. Journal of Plasma Environmental Science ことがわかる。時間経過による蛍光分布の観測か & Technology, Vol.6, No.2, pp.166-171 (2012).